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美國要對中共下死手!連這都不放過

阿波羅網王篤若報導/要對ASML(艾司摩爾)」下死手」!《MATCH Act》(跨高科技聯合執行法案)擬連老舊設備維修都不放過

美國對中共的絞殺,正準備再加一道鎖。美國國會正推動《MATCH Act》(跨大西洋高科技聯合執行法案)法案,一旦通過,將把過去對盟國的」政治施壓」升級為具有法律強制力的手段,逼迫全面跟進美國的敏感科技出口管制——屆時荷蘭半導體設備巨頭ASML(艾司摩爾)不僅可能被禁止向中共出售較舊款DUV(深刻)設備,甚至連已經賣出去的設備,維修保養服務都可能被切斷。如果荷蘭不配合,美國甚至可以直接對荷蘭祭出制裁。

據荷蘭媒體《NU.nl》(NU點nl新聞網)報道,美國的目標很明確:卡住中共取得先進晶元製造設備的每一條路,延緩其在AI(人工智慧)與超級計算及軍事科技領域的發展。此前在美方壓力下,荷蘭已限制ASML(艾司摩爾)向中共出售EUV(極紫外光刻)曝光機及部分較先進的舊世代DUV(深紫外光刻)設備;如今《MATCH Act》(跨大西洋高科技聯合執行法案)要做的,是把這道限制線徹底焊死,連」維修」這種最後的灰色地帶都不留。

ASML(艾司摩爾)自身命門也捏在美國手裡——它的生產高度依賴美國供應商,過去美國就曾以」切斷」為要挾,成功逼荷蘭進一步收緊對華出口。如今荷蘭官員正在華府緊急遊說,試圖擋下這項法案,但據報道成功機會不高:共和、民主兩黨罕見一致支持,法案正朝著併入美國案的方向推進,而國防預算案幾乎從未在國會遇阻。

值得玩味的是法案里一個耐人尋味的漏洞:仍可能被允許向中共客戶出售最先進的晶元蝕刻設備,唯獨ASML(艾司摩爾)的DUV(深紫外光刻)設備被點名禁售——而中共恰恰已經摸索出用先進蝕刻技術搭配DUV(深紫外光刻)設備,」曲線救國」造出本該需要EUV(極紫外光刻)設備才能生產的晶元。這類蝕刻設備的全面禁令曾一度寫入法案初稿,後來卻被刪除,唯獨對ASML(艾司摩爾)的封殺被完整保留。

阿波羅網王篤然分析:這份法案最鋒利的地方,不在於它多禁了幾台設備,而在於它徹底改變了美國對盟友施壓的方式——從」請你配合」變成」你必須配合,否則連你一起制裁」。這種把盟友變成執行工具、甚至潛在制裁對象的做法,本質上是在用美國供應鏈的絕對優勢地位,逼所有中間商選邊站隊,不留任何模糊空間。而法案里」放過美國企業的蝕刻設備、只打ASML(艾司摩爾)」這個不對稱安排,也暴露出一個更現實的問題:出口管制從來不是純粹的技術封鎖,而是摻雜著產業利益博弈的政治工程——誰被卡脖子,往往取決於誰的政治籌碼更薄弱,而不只是誰的技術風險更高。對中共而言,這意味著即便僥倖靠」蝕刻+DUV(深紫外光刻)」繞開了一次封鎖,下一次漏洞被發現,補丁只會來得更快、更狠——技術追趕從來不是靠鑽空子能持續贏下去的遊戲。

原文鏈接美國要對中共下死手!連這都不放過(圖),來源:阿波羅網王篤若報導

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